在薄膜生長、界面演化、材料相變與器件研究中，很多真正關鍵的信息，并不只體現(xiàn)在“看見”變化，而在于能否準確捕捉光學響應隨溫度變化的細微過程。

和創(chuàng)聯(lián)合科技推出的MCLS650EL橢圓偏振冷熱臺系統(tǒng)，面向高端原位光學測試場景打造，將寬溫域精準控溫能力與橢圓偏振測量平臺深度結(jié)合，可實現(xiàn)樣品在不同溫度環(huán)境下的原位橢圓偏振分析，為薄膜、界面及表面性質(zhì)研究提供更高精度、更高效率的測試支撐。該系統(tǒng)支持在-195℃至650℃ 的寬溫區(qū)內(nèi)穩(wěn)定運行，并兼容多種腔內(nèi)環(huán)境控制方式，滿足科研與先進材料開發(fā)中的多樣化需求。

一臺設備，連接溫度控制與橢偏分析

橢圓偏振光譜是一種無損、無接觸的光學測量技術(shù)，通過分析偏振光經(jīng)樣品反射后偏振態(tài)的變化，可獲得薄膜厚度、界面結(jié)構(gòu)、表面粗糙層以及光學常數(shù)等關鍵信息，測量厚度范圍可覆蓋從幾埃到幾十微米。MCLS650EL基于標準橢圓偏振測量平臺開發(fā)，專為溫度相關橢圓偏振測試而設計，能夠幫助用戶在加熱、冷卻和環(huán)境變化過程中，持續(xù)追蹤樣品光學性質(zhì)的動態(tài)演變。

寬溫區(qū)、快響應，也能細致觀察關鍵變化

MCLS650EL 支持-195℃~650℃的寬溫域控制，升溫速率最高可達150℃/min，冷卻速率最高可達100℃/min。這意味著它既能夠滿足快速升降溫條件下的高效篩查，也能在接近目標溫度時通過更低速率進行精細調(diào)控，幫助研究人員更從容地觀察樣品在臨界過程中的微小變化。無論是快速分析材料響應，還是長時間跟蹤緩慢演化過程，都能兼顧效率與精度。

穩(wěn)定控溫，為高質(zhì)量原位測試提供基礎

對于橢圓偏振這類高靈敏光學測量而言，控溫精度和穩(wěn)定性直接影響數(shù)據(jù)可信度。MCLS650EL采用PID控溫方式，配備PT100 A級溫度傳感器，溫度分辨率達到0.001℃；其中在 室溫至650℃區(qū)間內(nèi)溫度穩(wěn)定性可達±0.02℃，在低溫區(qū)間也具備良好的控制能力。這樣的溫控表現(xiàn)，為高重復性、高一致性的原位測試提供了扎實保障。

為橢圓偏振測量而優(yōu)化的光路設計

MCLS650EL是一個帶有光學窗口的獨立系統(tǒng)，可在70°入射角 條件下開展橢圓偏振測量，適配標準橢圓偏振儀使用；同時，它也可作為開放式系統(tǒng)運行，以適應其他入射角需求。系統(tǒng)采用 石英窗口，頂部與側(cè)部窗口通徑均為7 mm，并可根據(jù)需求選配其他窗口材質(zhì)，為不同光譜范圍與應用場景保留靈活擴展空間。

多種腔內(nèi)環(huán)境，拓展更多應用可能

在溫度之外，樣品所處環(huán)境同樣會影響測試結(jié)果。MCLS650EL 支持密閉大氣環(huán)境，并可選配真空、保護氣氛及濕度控制功能，同時還提供 電探針選項，使系統(tǒng)能夠覆蓋更多材料表征與器件研究需求。對于需要同步考慮溫度、環(huán)境與電學因素的復雜實驗，這種擴展能力尤為重要。

小巧緊湊，更適合集成到現(xiàn)有測試平臺

MCLS650EL采用緊湊型結(jié)構(gòu)設計，臺體尺寸約135×95×40 mm，重量約800 g，樣品臺面為φ20 mm，樣品臺材質(zhì)為銀，在保證熱性能與光學適配能力的同時，也更便于集成到現(xiàn)有橢偏測試系統(tǒng)與原位表征平臺中。系統(tǒng)在高溫運行時支持外殼水冷，進一步提升設備運行的安全性與穩(wěn)定性。

不只是冷熱臺，更是原位橢偏測試的重要平臺

從薄膜厚度監(jiān)測，到界面變化分析；從材料熱響應研究，到器件性能表征，MCLS650EL 橢圓偏振冷熱臺系統(tǒng)不僅是一臺具備寬溫區(qū)控溫能力的冷熱臺設備，更是連接溫度變量與光學信息的重要原位測試平臺。

和創(chuàng)聯(lián)合科技致力于為先進材料、半導體、薄膜工藝與科研用戶提供更可靠、更靈活的原位測試解決方案。MCLS650EL 的推出，正是為了讓用戶在復雜實驗條件下，不只是“看到變化”，更能讀懂變化背后的光學與材料信息。

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